第一百六十章 第一台光刻机（2 / 2）
8X50芯片的性能在当下，依旧是足以进入前五。
而六十五纳米的支撑，是可以使用DUV干式光刻机制造的
再往下的各种内存以及其他类型的芯片，也是使用六十五纳米到一百三十纳米之间的工艺制造的。
这种级别的制程工艺，别说在当下了，就算是到了十几年后，依旧有相当大一部分市场。
这意味着DUV干式光刻机在十几年后依旧有市场……海湾科技搞DUV干式光刻机，市场前景还是有不小的。
海湾科技也不仅仅有比较先进的DUV干式光刻机项目，其实也有看似更落后，用248纳米波长光源，最低制程可以做到一百三十纳米工艺的KRF光刻机。
甚至连波长365纳米，最低制程只有三百五十纳米的i-line'光刻机项目都有。
因为哪怕到了二十年代中期了，更低技术KRF光刻机，甚至i-line光刻机依旧有着广泛的市场需求和价值！
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